第31章 光刻(补)-《心若繁星》


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    细部的制造失败率最大,好在工匠们送来的仪器和试剂大大提高了制造的成功率,如果他状态良好甚至有5成把握完成制作。

    但现在……实在不好说。

    以他现在所拥有的材料,最多只能让他失误5次。

    “最考验人的步骤到了,真正的制造现在才刚刚开始……”何汉心中感叹,放下已经完成的组件,脱下护具,回到床上盘腿坐了起来。

    精密电路的制造中会使用一种被称为光刻的过程,其中使用光掩模和化学刻蚀技术去完成极其细密的纳米级电路。

    “没想到我在这片森林里要手摇cpu,真是比梦还像梦。”

    感叹完自己即将充当光刻机,何汉开始深呼吸,慢慢吐出浊气,调整着自己的心态。

    良久,日上三竿。

    他睁开眼睛看着锻造台,台上整齐地摆放着各种物品。

    取用了所需的物品,锻造炉在何汉的指令下变幻形态,照射出紫外线。他开始进行光掩模的制造,任何一点小错误都可能导致失败。何汉用略显生疏的手势,将脑海中的路线逐一复刻到光掩模上。

    “滋滋。”一阵轻不可闻的报废声。

    眼前的材料片看起来几乎完美,但一个微小的精度偏差,就导致前功尽弃。

    “还有四次机会……”他心中默念,强迫自己冷静下来。

    ……

    接下来又一次倒在同一步骤。

    何汉眉头紧锁,看着工作台上的两块已经无法使用的材料片,心中不禁有些沉重。每一次失败都意味着成功概率的降低。

    他看了看护具下的绷带,内部伤口正在隐隐作痛。身体的痛苦和内心的压力两相结合,造成一种难以名状的煎熬感。

    何汉放下工具,更换起身上绑了几个小时的绷带,开始总结精度偏差的原因。


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